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米米(a)APCVD法生长示意图。(a)Al基底、晚上万Cu基底生长硼后的XPS表征,表明Al大幅氧化而Cu近乎未氧化。
研究结果表明,欠费亲自硼纳米片的常压生长具有典型的Volmer-Weber特征,可以被认为是多边形堆叠而成的孤立硼岛。(b-c)Al、道歉Cu基底并排生长的装置实物图、示意图与对应四个位置处的XPS结果,通过上游放置Al,可以在Cu上获得无表面氧化的硼样品。
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